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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Effects of Pressure on Electroplating of Copper using Supercritical Carbon Dioxide Emulsified Electrolyte 
著者
和文: TSO-FU MARK CHANG, 清水哲也, 石山 千恵美, 曽根 正人.  
英文: Tso-Fu Mark Chang, Tetsuya Shimizu, Chiemi Ishiyama, Masato Sone.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Thin Solid Films 
巻, 号, ページ Vol. 529        pp. 25-28
出版年月 2013年1月15日 
出版者
和文: 
英文:Elsevier 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 
DOI https://doi.org/10.1016/j.tsf.2012.05.058

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