Quantitative Study on Removal of SU-8 Photoresist Patterns by Supercritical CO2 Emulsion

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Quantitative Study on Removal of SU-8 Photoresist Patterns by Supercritical CO2 Emulsion

著者

和文:	TSO-FU MARK CHANG, 石山千恵美, 里達雄, 曽根正人.
英文:	Tso-Fu Mark Chang, Chiemi Ishiyama, Tatsuo Sato, Masato Sone.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	38th International Conference on Micro and Nano Engineering, (MNE2012)

巻, 号, ページ

pp. P061-100

出版年月

2012年9月16日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	38th International Conference on Micro and Nano Engineering, (MNE2012)

開催地

和文:
英文:	Toulouse