Formation and structural analysis of half-metallic Co2FeSi/SiOxNy/Si contacts with radical-oxynitridation-SiOxNy tunnel barrier

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Formation and structural analysis of half-metallic Co2FeSi/SiOxNy/Si contacts with radical-oxynitridation-SiOxNy tunnel barrier

著者

和文:	高村陽太, 林建吾, 周藤悠介, 菅原聡.
英文:	Y. Takamura, K. Hayashi, Y. Shuto, S. Sugahara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

paper P-40 pp. 127-128

出版年月

2011年10月4日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Symposium on Advanced Hybrid Nano Devices (IS-AHND) : Prospects by World’s Leading Scientists

開催地

和文:
英文:	Tokyo