Low-barrier ferromagnet source/drain MOSFETs using CoFe/Mg/AlOx/Si depinning contacts

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low-barrier ferromagnet source/drain MOSFETs using CoFe/Mg/AlOx/Si depinning contacts

著者

和文:	置塩貴雄, 高村陽太, 菅原聡.
英文:	T. Okishio, Y. Takamura, S. Sugahara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

paper P-42 pp. 131-132

出版年月

2011年10月4日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Symposium on Advanced Hybrid Nano Devices (IS-AHND) : Prospects by World’s Leading Scientists

開催地

和文:
英文:	Tokyo