Formation of half-metallic tunnel junctions of Co2FeSi/SiOxNy/Si using radical oxynitridation technique

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Formation of half-metallic tunnel junctions of Co2FeSi/SiOxNy/Si using radical oxynitridation technique

著者

和文:	高村陽太, 林建吾, 周藤悠介, 菅原聡.
英文:	Y. Takamura, K. Hayashi, Y. Shuto, S. Sugahara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

DD-9 p. 96

出版年月

2011年6月22日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Electronic Materials Conf. (EMC) 2011

開催地

和文:
英文:	Santa Barbara, CA