English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Capacitance-Voltage Characterization of La2O3 Metal-Oxide-Semiconductor Structures on Ino.53Ga.0.47As Substrate with Different Surface Treatment Methods
著者
和文:
ダリューシュザデ
,
神田高志
,
山下晃司
,
角嶋邦之
,
野平博司
,
パールハットアヘメト
,
筒井一生
,
西山彰
,
杉井信之
,
名取研二
,
服部健雄
,
岩井洋
.
英文:
ダリューシュザデ
,
Takashi Kanda
,
山下晃司
,
Kuniyuki KAKUSHIMA
,
Hiroshi Nohira
,
Ahmet Parhat
,
KAZUO TSUTSUI
,
西山彰
,
Nobuyuki Sugii
,
KENJI NATORI
,
takeo hattori
,
HIROSHI IWAI
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Japanese Journal of Applied Physics
巻, 号, ページ
Vol. 50 No. 10 pp. 10PD03-1-4
出版年月
2011年10月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.