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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Interface and electrical properties of Tm2O3 gate dielectrics for gate oxide scaling in MOS devices 
著者
和文: 幸田みゆき, 川那子高暢, パールハットアヘメト, 名取研二, 服部健雄, 岩井洋.  
英文: Miyuki Kouda, Takamasa Kawanago, Ahmet Parhat, KENJI NATORI, takeo hattori, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal of Vacuum Science and Technology B 
巻, 号, ページ Vol. 29    No. 6    pp. 062202-1-4
出版年月 2011年11月 
出版者
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会議名称
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開催地
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