Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Properties of CeOx/La2O3 gate dielectric and its effects on the MOS transistor characteristics 
著者
和文: H Wong, B.L. Yang, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 岩井洋.  
英文: H Wong, B.L. Yang, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Vacuum 
巻, 号, ページ Vol. 86    No. 7    pp. 990-993
出版年月 2012年2月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 
DOI https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2011.09.010

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.