English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Oxide and interface trap densities estimation in ultrathin W/ La2O3/Si MOS capacitors
著者
和文:
マイマイティ マイマイティレャアティ
,
久保田透
,
関拓也
,
角嶋邦之
,
パールハットアヘメト
,
筒井一生
,
片岡好則
,
西山彰
,
杉井信之
,
名取研二
,
服部健雄
,
岩井洋
.
英文:
マイマイティ マイマイティレャアティ
,
久保田透
,
関拓也
,
Kuniyuki KAKUSHIMA
,
Ahmet Parhat
,
KAZUO TSUTSUI
,
片岡好則
,
西山彰
,
Nobuyuki Sugii
,
Kenji Natori
,
takeo hattori
,
HIROSHI IWAI
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Microelectronics Reliability
巻, 号, ページ
Vol. 52 No. 6 pp. 1039-1042
出版年月
2012年6月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
DOI
https://doi.org/10.1016/j.microrel.2011.12.025
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.