Boron depth profile of a plasma immersed substrate by XPS analysis

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Boron depth profile of a plasma immersed substrate by XPS analysis

著者

和文:	角嶋邦之, 金原潤, 服部健雄, 筒井一生, 岩井洋.
英文:	Kuniyuki KAKUSHIMA, Jun Kanehara, takeo hattori, KAZUO TSUTSUI, HIROSHI IWAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2013年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	G-COE PICE International Symposium and IEEE EDS Minicolloquium on Advanced Hybrid Nano Devices: Prospects by World’s Leading Scientists

開催地

和文:	東京
英文: