<i>β</i>-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> (201)基板上のAl<sub>2<i>x</i></sub>Ga<sub>2-2<i>x</i></sub>O<sub>3</sub>薄膜の成長制御 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	β-Ga₂O₃ (201)基板上のAl_2xGa_2-2xO₃薄膜の成長制御
英文:

著者

和文:	向井章, 大島孝仁, 佐々木公平, 増井建和, 倉又朗人, 山腰茂伸, 大友明.
英文:	A. Mukai, T. Oshima, K. Sasaki, T. Masui, A. Kuramata, S. Yamakoshi, A. Ohtomo.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2013年3月28日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第60回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 60th JSAP Spring Meeting, 2013

開催地

和文:	神奈川県厚木市
英文:	Atsugi, Kanagawa

公式リンク

http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/index.html

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.