Comparative Study of Metalorganic Chemical Vapour Deposition of HfO2 and Al2O3 Gate Insulators on SiC for Power MOSFET Applications

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Comparative Study of Metalorganic Chemical Vapour Deposition of HfO2 and Al2O3 Gate Insulators on SiC for Power MOSFET Applications

著者

和文:	徳光永輔, 山村勇速, 日野史郎, 三浦成久, 今泉昌之, 住谷ひろあき, 大森達夫.
英文:	Eisuke Tokumitsu, Isahaya Yamamura, Shiro Hino, Naruhisa Miura, Masayuki Imaizumi, Hiroaki Sumitani, Tatsuo Oomori.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2012年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	WoDiM 2012(17th Workshop on Dielectrics in Microelectronics)

開催地

和文:
英文:	Dresden