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論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Comparative Study of Metalorganic Chemical Vapour Deposition of HfO2 and Al2O3 Gate Insulators on SiC for Power MOSFET Applications
著者
和文:
徳光 永輔
,
山村 勇速
,
日野 史郎
,
三浦 成久
,
今泉 昌之
,
住谷 ひろあき
,
大森 達夫
.
英文:
Eisuke Tokumitsu
,
Isahaya Yamamura
,
Shiro Hino
,
Naruhisa Miura
,
Masayuki Imaizumi
,
Hiroaki Sumitani
,
Tatsuo Oomori
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
出版年月
2012年6月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
WoDiM 2012(17th Workshop on Dielectrics in Microelectronics)
開催地
和文:
英文:
Dresden
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