Effect of an ultrathin SiO2 interfacial layer on the hysteretic current-voltage characteristics of CeOx-based metal-insulator-metal structures

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of an ultrathin SiO2 interfacial layer on the hysteretic current-voltage characteristics of CeOx-based metal-insulator-metal structures

著者

和文:	Miranda Enrique, 叶真一, 竇春萌, J. Sune, 角嶋邦之, 岩井洋.
英文:	Miranda Enrique, shinichi kano, 竇春萌, J. Sune, Kuniyuki KAKUSHIMA, HIROSHI IWAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Thin Solid Films

巻, 号, ページ

Vol. 533 pp. 38-42

出版年月

2013年4月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI