シリコン結合量子ドットの電子輸送特性評価 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	シリコン結合量子ドットの電子輸送特性評価
英文:

著者

和文:	小寺哲夫, Thierry Ferrus, 山端元音, 中岡俊裕, David Williams, 小田俊理, 荒川泰彦.
英文:	Tetsuo Kodera, Thierry Ferrus, Gento Yamahata, 中岡俊裕, David A. Williams, SHUNRI ODA, Yasuhiko Arakawa.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2009年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本物理学会2009年秋季大会
英文:

開催地

和文:	熊本
英文:

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