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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Reduction of Charge Noise in Dual-Gate Si/SiGe Quantum Point Contact 
著者
和文: 神岡 純, 小寺 哲夫, T.Obata, K.Takeda, ワッシーム エム アクタール, 樽茶 清悟, 小田 俊理.  
英文: J.Kamioka, T.Kodera, T.Obata, K.Takeda, W.M.Akhtar, S.Tarucha, S.Oda.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2013年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:Solid State Devices and Materials Conference 
開催地
和文: 
英文:Fukuoka 

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