Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるAl2O3薄膜の製膜過程

論文・著書情報

タイトル

和文:	Al(CH₃)₃を原料とするMOCVD法によるAl₂O₃薄膜の製膜過程
英文:	Growth process of Al₂O₃ thin films deposited by MOCVD using Al(CH₃)₃

著者

和文:	田中敦, 宇津木貴太, 石崎超矢, 西山昭雄, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹.
英文:	Atsushi Tanaka, Takahiro Utsugi, Noriya Ishizaki, Akio Nishiyama, Tadashi Shiota, Osamu Sakurai, Kazuo Shinozaki, Naoki Wakiya.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集
英文:

巻, 号, ページ

2A04

出版年月

2013年9月11日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会
英文:

開催地

和文:	埼玉県
英文: