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論文・著書情報
タイトル
和文:
ナノメータ絶縁膜を用いたLSI用新デバイスの可能性
英文:
Possibility of Novel Device for LSI Using Nanometer Insulator Film
著者
和文:
浅田雅洋
, 坂口知明,
渡辺正裕
.
英文:
M. Asada
, T. Sakaguchi,
M. Watanabe
.
言語
Japanese
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
SC-6-4
出版年月
1989年9月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
電子通信学会全国大会 (シンポジウム)
英文:
Nat. Conv. Rec. of IEICE of Japan
開催地
和文:
神奈川県
英文:
Kanagawa
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