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論文・著書情報


タイトル
和文:ナノメータ絶縁膜を用いたLSI用新デバイスの可能性 
英文:Possibility of Novel Device for LSI Using Nanometer Insulator Film 
著者
和文: 浅田雅洋, 坂口知明, 渡辺正裕.  
英文: M. Asada, T. Sakaguchi, M. Watanabe.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ SC-6-4       
出版年月 1989年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:電子通信学会全国大会 (シンポジウム) 
英文:Nat. Conv. Rec. of IEICE of Japan 
開催地
和文:神奈川県 
英文:Kanagawa 

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