ICB法によるCaF<sub>2</sub>(111)薄膜上へのCoSi<sub>2</sub>エピタキシャル成長

論文・著書情報

タイトル

和文:	ICB法によるCaF₂(111)薄膜上へのCoSi₂エピタキシャル成長
英文:	Epitaxial growth of CoSi₂ on CaF₂(111) thin film by ICB technique

著者

和文:	渡辺正裕, 六車仁志, 村竹茂樹, 浅田雅洋, 荒井滋久.
英文:	M. Watanabe, H. Muguruma, S. Muratake, M. Asada, S. Arai.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第37回応用物理学会関係連合講演会
英文:	Nat. Conv. Rec. of The Japan Soc. of Appl. Phys

巻, 号, ページ

29a-PC-18 1 251

出版年月

1990年3月29日

出版者

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会議名称

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開催地

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