ショットキー及びヘテロシリサイド・シリコン接合トンネルFETのプロセス及び構造因子に関する研究

論文・著書情報

タイトル

和文:	ショットキー及びヘテロシリサイド・シリコン接合トンネルFETのプロセス及び構造因子に関する研究
英文:	A Study on Process and Device Structure for Schottky and Heterojunction Tunnel FETs using Silicide-Silicon interface

著者

和文:	呉研.
英文:	Wu Yan.

種別

種別:	学位論文(博士)論文要旨
国名:	日本

言語

Japanese

学位授与組織

東京工業大学

報告番号

甲第9534号

学位授与日

2014/03/26

審査員

岩井　洋, 名取　研二, 片岡　好則, 筒井　一生, 若林　整, 杉井　信之, 西山　彰, 角嶋　邦之, Yi　Shi, Liu　Ming.

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