Siの電子ビーム蒸着によるCaF<sub>2</sub>/Si(111)上へのCoSi<sub>2</sub>エピタキシャル成長

論文・著書情報

タイトル

和文:	Siの電子ビーム蒸着によるCaF₂/Si(111)上へのCoSi₂エピタキシャル成長
英文:	Epitaxial growth of CoSi₂ on CaF₂/Si(111) with electron beam evaporated Si

著者

和文:	末益崇, 渡辺正裕, 村竹茂樹, 浅田雅洋.
英文:	T. Suemasu, M. Watanabe, S. Muratake, M. Asada.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

9p-Z-12 1 228

出版年月

1991年10月9日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第52回応用物理学会学術講演会
英文:	Nat. Conv. Rec. of The Japan Soc. of Appl. Phys.

開催地

和文:	岡山県
英文:	Okayama