電子ビーム露光によるCaF<sub>2</sub>無機レジスト70nm周期パターニング

論文・著書情報

タイトル

和文:	電子ビーム露光によるCaF₂無機レジスト70nm周期パターニング
英文:	Seventy nm pitch CaF₂ inorganic resist pattern by electron beam exposure

著者

和文:	服部哲也, 本郷廣生, 宮本恭幸, 古屋一仁, 松沼健司, 渡辺正裕, 浅田雅洋.
英文:	T.Hattori, H.Hongo, Y.Miyamoto, KAZUHITO FURUYA, 松沼健司, M.Watanabe, M.Asada.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

26a-SZW-27 2 565

出版年月

1996年3月26日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第43回応用物理学会関係連合講演会
英文:	Nat. Conv. Rec. of The Japan Soc. of Appl. Phys.

開催地

和文:	埼玉県
英文:	Saitama