High Removal Rate of CF4 Using DC Plasma within Bubbles and Trapping of Fluorine

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	High Removal Rate of CF4 Using DC Plasma within Bubbles and Trapping of Fluorine

著者

和文:	松谷有里子, 立花孝介, 菅沼亮太, 安岡康一.
英文:	Yuriko Matsuya, Kosuke Tachibana, Ryota Suganuma, KOICHI YASUOKA.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2013年12月21日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The 8th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-8),

開催地

和文:
英文:	Hsinchu