CdF<sub>2</sub>/CaF<sub>2</sub>共鳴トンネルゲート構造を用いた3端子集積デバイスの作製と評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	CdF₂/CaF₂共鳴トンネルゲート構造を用いた3端子集積デバイスの作製と評価
英文:	Fabrication of Three-Terminal Integrated Devices using CdF₂/CaF₂ Resonant Tunneling Gate Structure

著者

和文:	和田宇史, 鈴木雄介, 平澤亮, 渡辺正裕.
英文:	T. Wada, Y. Suzuki, R. Hirasawa, M. Watanabe.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

30p-E-2 3 1461

出版年月

2008年3月30日

出版者

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会議名称

和文:	第55回応用物理学会関係連合講演会
英文:	Nat. Conv. Rec. of the 55th Autumn Meeting of The Jpn. Soc. of Appl. Phys

開催地

和文:	千葉県
英文:	Chiba