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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Resistivity of Ni silicide nanowires and its dependence on Ni film thickness used for the formation 
著者
和文: 宋 禛漢, 松本一輝, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋.  
英文: 宋 禛漢, Kazuki Matsumoto, Kuniyuki KAKUSHIMA, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:ECS Transactions 
巻, 号, ページ Vol. 58    No. 7    pp. 87-91
出版年月 2013年10月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:ECS 224nd Meeting 
開催地
和文: 
英文:San Francisco 
DOI https://doi.org/10.1149/05807.0087ecst

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