Formation of Silicon and Cobalt Silicide Nanometer Fine Particles (&lt;10nm) in CaF<sub>2</sub>

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Formation of Silicon and Cobalt Silicide Nanometer Fine Particles (<10nm) in CaF₂

著者

和文:	渡辺正裕, F. Iizuka, 浅田雅洋.
英文:	M. Watanabe, F. Iizuka, M. Asada.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

I22 126-127

出版年月

1995年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Workshop on Mesoscopic Physics and Electronics

開催地

和文:
英文:	Tokyo, Japan