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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Low temperature (～420°C) epitaxial growth of CaF2/Si(111) by Ionized-Cluster-Beam technique 
著者
和文: 渡辺 正裕, H. Muguruma, 浅田 雅洋, 荒井 滋久.  
英文: M. Watanabe, H. Muguruma, M. Asada, S. Arai.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 29    No. 9    pp. 1803-1804
出版年月 1990年9月 
出版者
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会議名称
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開催地
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