Epitaxial Growth of Metal (CoSi<sub>2</sub>)/ Insulator(CaF<sub>2</sub>) Nanometer-Thick Layered Structure on Si(111)

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Epitaxial Growth of Metal (CoSi₂)/ Insulator(CaF₂) Nanometer-Thick Layered Structure on Si(111)

著者

和文:	渡辺正裕, S. Muratake, H. Fujimoto, S. Sakamori, 浅田雅洋, 荒井滋久.
英文:	M. Watanabe, S. Muratake, H. Fujimoto, S. Sakamori, M. Asada, S. Arai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 31 No. 2A pp. L116-L118

出版年月

1992年2月

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
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