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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Epitaxial Growth of Metal (CoSi2)/ Insulator(CaF2) Nanometer-Thick Layered Structure on Si(111) 
著者
和文: 渡辺 正裕, S. Muratake, H. Fujimoto, S. Sakamori, 浅田 雅洋, 荒井 滋久.  
英文: M. Watanabe, S. Muratake, H. Fujimoto, S. Sakamori, M. Asada, S. Arai.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 31    No. 2A    pp. L116-L118
出版年月 1992年2月 
出版者
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会議名称
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開催地
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