Micro patterning on nonplanar substrates using unconventional photolithographic technique with flexible photomask

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Micro patterning on nonplanar substrates using unconventional photolithographic technique with flexible photomask

著者

和文:	朴鍾淏, 藤田博之, 金範埈.
英文:	Jongho Park, Hiroyuki Fujita, Beomjoon Kim.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2011年10月24日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	24th International Microprocesses and Nanotechnology Conference

開催地

和文:
英文: