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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Low DitHigh-k/In0.53Ga0.47As Gate Stack with CET down to 0.73 nm and Thermally Stable Silicide Contact by Suppression of Interfacial Reaction 
著者
和文: ｻﾞﾃﾞﾊｻﾝ ﾀﾞﾘﾕｰｼﾕ, 大嶺洋, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋.  
英文: DARYOUSH ZADEH, Hiroshi Oomine, Kuniyuki KAKUSHIMA, 片岡好則, 西山彰, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2014年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:IEDM 2013 
開催地
和文: 
英文:Washington, DC 

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