Repetitive operation of counter-facing plasma focus device: toward a practical light source for EUV lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Repetitive operation of counter-facing plasma focus device: toward a practical light source for EUV lithography

著者

和文:	袖子田竜也, 桑原一, 増田政史, 劉世家, 狩野弘毅, 川口健太, 堀岡一彦.
英文:	Tatsuya Sodekoda, Hajime Kuwabara, Masashi Masuda, Shijia Liu, Kouki Kanou, Kenta Kawaguchi, Kazuhiko Horioka.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography V

巻, 号, ページ

Vol. 9048 pp. 904824-1-8

出版年月

2014年4月17日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	SPIE

開催地

和文:	San Jose, california
英文:

DOI