SF6-Based Deep Reactive Ion Etching of (001) Rutile TiO2 Substrate for Photonic Crystal Structure with Wide Complete Photonic Band Gap

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	SF6-Based Deep Reactive Ion Etching of (001) Rutile TiO2 Substrate for Photonic Crystal Structure with Wide Complete Photonic Band Gap

著者

和文:	松谷晃宏, 林未来郎, 守井泰士, 西岡國生, 磯部敏宏, 中島章, 松下祥子.
英文:	Akihiro Matsutani, Mikiro Hayashi, Yasushi Morii, Kunio Nishioka, Toshihiro Isobe, Akira Nakajima, Sachiko Matsushita.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 51 098002

出版年月

2012年8月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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