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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Smooth and Vertical Profile Dry Etching of Si Using XeF2 Plasma 
著者
和文: 松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫.  
英文: Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ vol. 48    no. 6S    pp. 06FE09-1-3
出版年月 2009年6月 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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公式リンク http://iopscience.iop.org/1347-4065/48/6S/06FE09
 
DOI http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.48.06FE09

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