Reduction of Electrical Resistance of Nanometer-Thick CoSi2 Film on CaF2 by pseudomorphic growth of CaF2 on Si(111)

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Reduction of Electrical Resistance of Nanometer-Thick CoSi₂ Film on CaF₂ by pseudomorphic growth of CaF₂ on Si(111)

著者

和文:	渡辺正裕, W. Saitoh, K. Mori, H. Sugiura, 丸山武男, 浅田雅洋.
英文:	MASAHIRO WATANABE, W. Saitoh, K. Mori, H. Sugiura, T. Maruyama, M. Asada.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 36 No. 7A pp. 4470-4471

出版年月

1997年7月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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