Seventy nm Pitch Patternings on CaF<sub>2</sub> by e-beam Exposure: An Inorganic Resist and a Contamination Resist

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Seventy nm Pitch Patternings on CaF₂ by e-beam Exposure: An Inorganic Resist and a Contamination Resist

著者

和文:	渡辺正裕, H. Hongo, T. Hattori, 宮本恭幸, K. Furuya, T. Matsunuma, 浅田雅洋.
英文:	MASAHIRO WATANABE, H. Hongo, T. Hattori, Y. Miyamoto, K. Furuya, T. Matsunuma, M. Asada.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 35 No. 12A pp. 6342-6343

出版年月

1996年12月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI