Miniaturization of exposure area for electron beam lithography using proximity effect correction toward Si optical circuits

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Miniaturization of exposure area for electron beam lithography using proximity effect correction toward Si optical circuits

著者

和文:	渥美裕樹, N. Taksatorn, 西山伸彦, 宮本恭幸, 荒井滋久.
英文:	Yuki Atsumi, N. Taksatorn, N. Nishiyama, Y. Miyamoto, S.Arai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2013年11月5日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2013)

開催地

和文:	札幌
英文: