Charge noise analysis of metal oxide semiconductor dual-gate Si/SiGe quantum point contacts

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Charge noise analysis of metal oxide semiconductor dual-gate Si/SiGe quantum point contacts

著者

和文:	神岡純, 小寺哲夫, K. Takeda, T. Obata, 樽茶清悟, 小田俊理.
英文:	J. Kamioka, T. Kodera, K. Takeda, T. Obata, S. Tarucha, S. Oda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 115 pp. 203709 (5 pages)

出版年月

2014年5月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI