Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Fluorination of Graphene by Reactive Ion Etching System Using Ar/F2 Plasma 
著者
和文: 松谷 晃宏, 田原 康佐, 岩崎 孝之, 波多野 睦子.  
英文: Akihiro Matsutani, Kosuke Tahara, Takayuki Iwasaki, Mutsuko Hatano.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 52        pp. 06GD11-6,GD11-3
出版年月 2013年6月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 
公式リンク http://iopscience.iop.org/1347-4065/52/6S/06GD11
 
DOI https://doi.org/10.7567/JJAP.52.06GD11

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.