Optimization of Deposition Conditions of a-Al2O3 Thin Films by Low Pressure MOCVD Using Al(CH3)3

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Optimization of Deposition Conditions of a-Al2O3 Thin Films by Low Pressure MOCVD Using Al(CH3)3

著者

和文:	林俊甫, 田中敦, 石崎超矢, 西山昭雄, 脇谷尚樹, クロスジェフリースコット, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫.
英文:	Lin, A. Tanaka, N. Ishizaki, A. Nishiyama, N. Wakiya, J. S. Cross, T. Shiota, O. Sakurai, K. Shinozaki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Abstract book of The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8)

巻, 号, ページ

26pKP27

出版年月

2014年6月25日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8)

開催地

和文:
英文: