Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Microfabrication of 4H-SiC by Reactive Ion Etching Using XeF2 Plasma 
著者
和文: 松谷晃宏, 小山二三夫.  
英文: Akihiro matsutani, FUMIO KOYAMA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2014年11月27日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:2014 International Symposium on Dry Process (DPS2014) 
開催地
和文: 
英文:Yokohama 

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.