Fabrication of SiC Membrane High Contrast Grating Using Nanoimprint Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of SiC Membrane High Contrast Grating Using Nanoimprint Lithography

著者

和文:	頼映佑, 井上俊也, Tien-Chang Lu, Shing-Chung Wang, 小山二三夫.
英文:	Ying-Yu Lai, Shunya Inoue, Tien-Chang Lu, Shing-Chung Wang, Fumio Koyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

12a-A17-11

出版年月

2015年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	2015年第62回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The62nd JSAP Spring Meeting 2015

開催地

和文:	神奈川
英文:	Kanagawa