Angled etching of (001) rutile Nb-TiO2 substrate using SF6-based capacitively coupled plasma reactive ion etching

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Angled etching of (001) rutile Nb-TiO2 substrate using SF6-based capacitively coupled plasma reactive ion etching

著者

和文:	松谷晃宏, 西岡國生, 佐藤美那, 庄司大, 小林大斗, 磯部敏宏, 中島章, 立間徹, 松下祥子.
英文:	Akihiro Matsutani, Kunio Nishioka, Mina Sato, Dai Shoji, Daito Kobayashi, Toshihiro Isobe, Akira Nakajima, Tetsu Tatsuma, Sachiko Matsushita.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 53 p. 06JF02

出版年月

2014年5月

出版者

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会議名称

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開催地

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