Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化

論文・著書情報

タイトル

和文:	Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化
英文:

著者

和文:	田中敦, 宇津木貴太, 西山昭雄, 脇谷尚樹, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫.
英文:	Atsushi Tanaka, Takahiro Utsugi, Akio Nishiyama, naoki wakiya, Tadashi SHIOTA, osamu sakurai, KAZUO SHINOZAKI.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会2014年年会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

2G28

出版年月

2015年3月17日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会2014年年会
英文:

開催地

和文:
英文:	横浜