PLD 法を用いたCr2O3シード層の製膜と MOCVD 法によるAl2O3薄膜の結晶化への影響

論文・著書情報

タイトル

和文:	PLD 法を用いたCr2O3シード層の製膜と MOCVD 法によるAl2O3薄膜の結晶化への影響
英文:

著者

和文:	宇津木貴太, 田中敦, 西山昭雄, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹.
英文:	Takahiro Utsugi, Atsushi Tanaka, Akio Nishiyama, Tadashi SHIOTA, osamu sakurai, KAZUO SHINOZAKI, naoki wakiya.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

B13

出版年月

2014年9月2日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会
英文:

開催地

和文:
英文:	益子