Mask Manufacturability Aware Post OPC Algorithm For Optical Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Mask Manufacturability Aware Post OPC Algorithm For Optical Lithography

著者

和文:	AWAD Ahmed, 高橋篤司.
英文:	Ahmed Awad, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	DAシンポジウム2015 論文集，情報処理学会シンポジウムシリーズ
英文:	Proc. DA Symposium 2015, IPSJ Symposium Series

巻, 号, ページ

Vol. 2015 pp. 119-124

出版年月

2015年8月19日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
英文:

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