Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:高濃度ドーピングしたシリコンを用いた単一量子ドットの正孔輸送特性 
英文: 
著者
和文: 山岡 裕, 小田 俊理, 小寺 哲夫.  
英文: Yuu Yamaoka, SHUNRI ODA, Tetsuo Kodera.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2016年3月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第63回応用物理学会春季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:東京都 
英文: 

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.