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論文・著書情報


タイトル
和文:次世代リソグラフィを目指したケイ素含有ブロック共重合体ドメインの垂直配向制御に関する研究 
英文:Perpendicular Orientation Control of Si-Containing Block Copolymer Domains for Next Generation Lithography 
著者
和文: 瀬下武広.  
英文: Takehiro Seshimo.  
種別
種別:学位論文(博士)審査の要旨 
国名:Japan 
言語 English 
学位授与組織 Tokyo Institute of Technology 
報告番号 甲第10120号 
学位授与日 2016/03/26 
審査員  
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