Improvement of Interface Property of HfO2/Al2O3/In0.53Ga0.47As Using Nitrogen Plasma Cleaning and Hydrogen Annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Improvement of Interface Property of HfO2/Al2O3/In0.53Ga0.47As Using Nitrogen Plasma Cleaning and Hydrogen Annealing

著者

和文:	祢津誠晃, 金澤徹, 宮本恭幸.
英文:	S. Netsu, T. Kanazawa, Y. Miyamoto.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2015年7月1日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	27th International Conference on Indium Phosphide and Related Materials

開催地

和文:
英文:	Santa Barbara, California