Low Temperature MOCVD deposited Ta2O5 films with good dielectric property from Ta(NtBu)(OtBu)3 and O2

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low Temperature MOCVD deposited Ta2O5 films with good dielectric property from Ta(NtBu)(OtBu)3 and O2

著者

和文:	千葉洋一, Ken-ichi Tada, Taishi Furukawa, Toshiki Yamamoto, Tadahiro Yotsuya, Noriaki Oshima, 舟窪浩.
英文:	Hirokazu Chiba, Ken-ichi Tada, Taishi Furukawa, Toshiki Yamamoto, Tadahiro Yotsuya, Noriaki Oshima, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2015年10月19日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	STAC-9 & TOEO-9

開催地

和文:
英文:	Ibaraki