HfSi2の水蒸気酸化挙動

論文・著書情報

タイトル

和文:	HfSi2の水蒸気酸化挙動
英文:	Steam Oxidation Behavior of HfSi2

著者

和文:	吉田克己, 津之浦徹, 矢野豊彦, 青木卓哉, 小笠原俊夫.
英文:	Katsumi Yoshida, Toru Tsunoura, Toyohiko Yano, Takuya Aoki, Toshio Ogasawara.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

# 2D24

出版年月

2015年9月17日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会第28回秋季シンポジウム
英文:	28th Fall Meeting of The Ceramic Society of Japan

開催地

和文:	富山
英文:	Toyama