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論文・著書情報


タイトル
和文:第一原理計算による化合物半導体のドーピング限界の検討 
英文: 
著者
和文: 西谷宣彦, 原田航, 熊谷悠, 赤松寛文, 大場史康.  
英文: Nobuhiko Nishiya, Kou Harada, Yu Kumagai, Hirofumi Akamatsu, Fumiyasu Oba.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2016年9月21日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:日本金属学会2016年（第159回）秋期講演大会 
英文: 
開催地
和文:豊中市 
英文: 

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